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Hidrate profundamente a sua tez com a máscara leave-on 111SKIN, uma fórmula que o deixa com um aspecto mais radiante do que antes. Com uma consistência sumptuosa e derretida, a máscara afunda-se na pele para reabastecer e revitalizar as áreas mais secas e desidratadas. Perfeita para as tezes estressadas que estão frequentemente expostas a poluentes, a máscara possui uma mistura concentrada de ingredientes que podem ser deixados na pele seguindo sua rotina habitual de limpeza e tonificação. Quer use durante o dia ou à noite, a máscara protege a sua pele para promover conforto duradouro.
Misturada com um Complexo de Umidade importantíssimo, a máscara aproveita as propriedades hidratantes do Alginato de Ácido Hialurônico, Pullulan, Uréia, Serina e Glicerina, que trabalham em conjunto em uma matriz sem costura. Isto cria uma barreira invisível para reduzir a perda de água, mantendo a humidade onde ela precisa de estar. Um Complexo de Aminoácidos adicionado usa um processo bioquímico para dar à sua tez fotoproteção, tornando os sinais de danos solares menos perceptíveis. Terminado com um nutritivo botânico, Wu Zhu Yu, a microcirculação será suportada, encorajando um resultado final mais brilhante.
Aqua / Water / Eau, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, Butylene Glycol, Glyceryl Stearate, Isopropyl Palmitate, Propanediol, Cetearyl Alcohol, Argania Spinosa (Argan) Kernel Oil, Sodium Ascorbyl Phosphate, Phenoxyethanol, Peg-100 Stearate, Xanthan Gum, Sodium Hyaluronate, Carbomer, Tocopherol, Trehalose, Urea, Arginine, Benzyl Alcohol, Evodia Rutaecarpa Fruit Extract, Helianthus Annuus (Sunflower / Tournesol) Seed Oil, Disodium Adenosine Triphosphate, Mannitol, Rna, Pyridoxine Hcl, Ethylhexylglycerin, Serine, Pentylene Glycol, Teprenone, Sodium Hydroxide, Histidine Hcl, Phenylalanine, Dehydroacetic Acid, Algin, Glyceryl Polyacrylate, Caprylyl Glycol, Pullulan, Disodium Phosphate, Tyrosine, Potassium Phosphate, Fragrance / Parfum. Paraffin Free.
- Treatment
- 111SKIN
111SKIN Meso Infusion Leave on Hydration Mask 75ml
145.45€
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Hidrate profundamente a sua tez com a máscara leave-on 111SKIN, uma fórmula que o deixa com um aspecto mais radiante do que antes. Com uma consistência sumptuosa e derretida, a máscara afunda-se na pele para reabastecer e revitalizar as áreas mais secas e desidratadas. Perfeita para as tezes estressadas que estão frequentemente expostas a poluentes, a máscara possui uma mistura concentrada de ingredientes que podem ser deixados na pele seguindo sua rotina habitual de limpeza e tonificação. Quer use durante o dia ou à noite, a máscara protege a sua pele para promover conforto duradouro.
Misturada com um Complexo de Umidade importantíssimo, a máscara aproveita as propriedades hidratantes do Alginato de Ácido Hialurônico, Pullulan, Uréia, Serina e Glicerina, que trabalham em conjunto em uma matriz sem costura. Isto cria uma barreira invisível para reduzir a perda de água, mantendo a humidade onde ela precisa de estar. Um Complexo de Aminoácidos adicionado usa um processo bioquímico para dar à sua tez fotoproteção, tornando os sinais de danos solares menos perceptíveis. Terminado com um nutritivo botânico, Wu Zhu Yu, a microcirculação será suportada, encorajando um resultado final mais brilhante.
Aqua / Water / Eau, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, Butylene Glycol, Glyceryl Stearate, Isopropyl Palmitate, Propanediol, Cetearyl Alcohol, Argania Spinosa (Argan) Kernel Oil, Sodium Ascorbyl Phosphate, Phenoxyethanol, Peg-100 Stearate, Xanthan Gum, Sodium Hyaluronate, Carbomer, Tocopherol, Trehalose, Urea, Arginine, Benzyl Alcohol, Evodia Rutaecarpa Fruit Extract, Helianthus Annuus (Sunflower / Tournesol) Seed Oil, Disodium Adenosine Triphosphate, Mannitol, Rna, Pyridoxine Hcl, Ethylhexylglycerin, Serine, Pentylene Glycol, Teprenone, Sodium Hydroxide, Histidine Hcl, Phenylalanine, Dehydroacetic Acid, Algin, Glyceryl Polyacrylate, Caprylyl Glycol, Pullulan, Disodium Phosphate, Tyrosine, Potassium Phosphate, Fragrance / Parfum. Paraffin Free.
- Treatment
- 111SKIN
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